表面處理設備
VacuLAB-X小 型實驗室用真空等離子設備
產品特征:
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·使用簡便 ·處理速度快 ·真空度 ·集成的放電發(fā)生器 ·過程控制 ·等離子過程可視化 ·測試效果通用 |
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供實驗室測試和小批量生產使用的臺式真空等離子設備
Tantec的VacuLAB是VacuTEC設備的精簡版。VacuLAB可用于小批量的測試，并且用戶可控制所有參數(shù)。采用VacuLAB測試的結果也可應用到VacuTEC設備中。
VacuLAB是根據VacuTEC設備而專門設計的小型設備，具有體積小，方便攜帶等特點，既可以在實驗室即時完成各種樣品的效果測試，也可以用于小批量的生產。
VacuLAB集成proface面板，更加有利于控制和監(jiān)控參數(shù)變化的整個過程。
VacuLAB采用標準的陶瓷絕緣電極，保證了測試效果同樣適用于VacuTEC設備。
VacuLAB的倉門是透明的，因此用戶可觀察到等離子放電處理產品的全過程。
特點：
·使用簡便 在實驗室中可對各種部件進行測試，連接電源和裝置即可。
·處理速度快 材質不同，處理所需時間不同，一般為10-180s。
·真空度 處理過程中處理倉中的真空度為1-4mbar。
·集成的放電發(fā)生器 300w的放電發(fā)生器與設備集成為一體，可通過觸摸屏上進行控制。
·過程控制 通過內置的proface面板和PLC裝置，可控制和監(jiān)控整個處理過程。
·等離子過程可視化 處理倉門是透明材質制作，可以觀察到等離子處理的過程。
·測試效果通用 測試的效果也適用于VacuTEC。
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